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真空鍍膜的發展趨勢

日期:2024-12-21 15:30
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摘要:
     真空泵維修 ,蒸發,濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物**相沉積法,是基本的薄膜制備。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以,真空是薄膜制作的基礎,獲得并保持所需的真空環境,是鍍膜的必要條件。
真空系統的種類繁多。在實際工作中,必須根據自己的工作重點進行選擇。典型的真空系統包括:獲得真空的設備(真空泵),待抽空的容器(真空室),測量真空的器具(真空計)以及必要的管道,閥門和其它附屬設備。
     科技發展愈來愈快,信息高速公路,數字地球等新概念的提出,影響和帶動了全球的發展,目前,生命科學,環保科技,材料科學和納米科技使重點研究的;納米科技中又以納米電子學為優先研究。
     目前計算機和信息的基礎使大規模繼承電路;但下個世紀的基本元件將是納米電子集成電路。它是微電子器件的下一代,有自己的理論,和材料。現有微電子器件的主要材料是極純的硅,鍺等晶體半導體。納米電子器件有可能是以有機或無機復合晶體薄膜為主要原理,要求純度更高,結構更完善。真空制備的清潔環境,有希望加工組裝出納米電子器件所要求的結構。
     總之,表面和薄膜科學,微電子器件及納米等迅速發展,將使一起和檢測方法體系研究成為真空鍍膜中的發展重點;而電子束蒸發源將是真空鍍膜中的一種重要的加熱方法和發展方向。

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